化合物半導体ウエハプロセスのエピタキシャル成長技術開発

必須

• 工学系修士以上または同等の専門知識・スキルを有する方
• 化合物半導体（InP, GaAs, GaNなど）の結晶成長・評価経験に関する実務または研究（3年以上）
• MOCVD、MBEなどの結晶成長装置の操作・プロセス設計経験
• 物性物理、量子力学、電磁気学に関する基礎知識

歓迎

• 光通信デバイス、高周波デバイスなどの開発経験
• 成膜・エッチング・評価など周辺プロセスの知識
• 英語スキル（論文調査、海外メーカーとの技術ディスカッションなど）
• Python等を用いたデータ解析やプロセス制御スクリプト経験

求める人物像

• 結晶成長という“モノづくりの源”に情熱を持ち、原子レベルでの品質改善に挑戦できる人。
• 現場・技術・人をつなぐリーダーシップを発揮し、チームの成果に責任を持てる人。
• 新しい技術領域に自ら踏み込み、論理的に課題を解決できる人。
• 一緒に働く人だけでなく、関わる全ての人への心遣いや配慮ができる人。

使用ツール

採用背景

• 1960年代より積み重ねてきた研究開発の歴史を継承し、今もなお進化を続ける当社の化合物半導体技術。その技術から生み出される高周波・光デバイスは、AIの普及で大量の情報を処理するデータセンター、5Gなどの通信インフラ、センシング等に使用されており、性能面で他社の追随を許さず、国内外でトップクラスのシェアを誇ります。近年、通信トラフィックは急速に増大しており、お客様からの期待に応えるため、この度生産能力を大きく引き上げる「増産」へと踏み出すことになりました。これら最先端デバイスの性能を支える要となるのが、エピタキシャル成長技術です。新規デバイス構造の開発や量産プロセスの高度化に対応するため、エピタキシャル成長分野の実務経験を持つエンジニアを新たに募集します。

職務内容

• 光通信用途を始めとしたデバイス開発を支える化合物半導体エピタキシャル成長技術開発を担当していただきます。結晶品質および量産安定性の最適化を目指し、設計・実験・解析・量産導入までを一貫して行います。
• 【変更の範囲】会社の定める業務(※)(※)業務の都合によっては会社外の職務に従事するため出向又は転属を命じることがあります

業務内容例

• InP／GaAs／GaN 系のIII-V 族化合物半導体のエピタキシャル成長
• MOCVD装置を用いたInP／GaAs／GaN 系のエピタキシャル成長
• エピ成長条件（温度、圧力、V/III 比、キャリアガス流量）の設定・調整
• デバイス仕様に応じたエピ構造の実現（量子井戸層、ヘテロ障壁層、ドーピング制御 など）
• 薄膜の評価および解析
• エピ成長後の膜厚・組成の評価（XRD、SIMS、PL、TEM、SEM など）
• 欠陥密度、表面粗さ、歪み量など、品質に直結するパラメータの定量化
• 光学特性（PLピーク、吸収端）、電気特性（キャリア濃度、移動度）の解析
• エピ成長条件の最適化と再現性向上
• 結晶品質のばらつき要因の特定（ガス分布、ヒータプロファイル、基板回転、温度均一性など）
• エピ成長装置の経時変化を考慮した安定化手法の検討
• 量産ラインでの再現性確保に向けた条件最適化
• エピ成長装置のメンテナンス・安定動作管理
• 新規材料／構造のプロセス開発
• 高速・低消費電力デバイス向けの多重量子井戸（MQW）構造の開発
• 新デバイス用途への新規材料展開
• 将来的には、エピタキシャル成長技術のリーダー/マネージャーとしてグループの牽引。

組織のミッション

• 本部・事業部（高周波光デバイス製作所）
• 国内・海外顧客並びに社内部門に対する高周波デバイス製品・光デバイス製品の販売・開発
• ウエハ製造部
• 高周波デバイス・光デバイスの半導体ウエハ製造、エピ/プロセスの生産技術、要素技術開発
• エピ技術課
• 高周波デバイス・光デバイスのエピ構造開発、エピ量産技術

業務の魅力

• 原子オーダーで薄膜を制御するエピタキシャル成長技術は世界トップクラスのシェアを持つ光通信デバイスの性能を支える中核技術であり、「光」を生み出す最上流工程を担う事ができます。成長条件の最適化から量産化まで、自ら設計したプロセスが製品性能に直結し、理論（量子力学・固体物理）を実装に落とし込む高度なエンジニアリングを実践することができます。

想定されるキャリアパス

• エピ成長の技術開発と量産管理のとりまとめ業務を経て、成果と能力次第で管理職に登用。エピ成長技術をベースに、プロセス要素技術や製品設計に携わるキャリアプランも可能。