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神奈川県の生産技術の求人72件

高周波化合物半導体エピ結晶成長技術開発及び量産展開(電子デバイス)

450〜800万円/年

※ 募集要項に記載のレンジ。実額は選考で決まります

下限は全国の生産技術の求人の中央値(523万円)より73万円低い

勤務地
神奈川県横浜市栄区
休日
年間休日120日完全週休2日
雇用形態
正社員

どんな仕事かAIによる生成

5G/6G基地局向けGaN-HEMTデバイスのエピタキシャル結晶成長について、技術開発および量産展開を担うポジションです。MOCVD等を用いた結晶成長プロセスの開発から量産ラインへの展開までを担当します。エピタキシャル結晶成長を担うチームに配属され、プロセス開発やデバイス設計と連携します。

応募資格・募集要項・仕事内容を見る

この求人に応募

給与450〜800万円/年

募集元で応募する住友電工デバイス・イノベーション株式会社の採用ページへ
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応募は募集元の採用ページで受け付けています。当サイトに応募フォームはありません。

応募資格

必須

  • 下記いずれかに該当する方

    • 化合物半導体(GaN、GaAs等)のエピタキシャル結晶成長経験をお持ちの方
    • MOCVD、MBE等による結晶成長技術のご経験をお持ちの方
    • 半導体業界での経験があり、結晶成長技術に関心をお持ちの方(再教育可能)

歓迎

  • 下記いずれか満たす方は特に歓迎いたします

    • GaN-HEMT向け結晶成長の開発経験
    • 高周波デバイスに関する知識
    • 量産展開・歩留まり改善のご経験
    • 結晶品質の評価・解析技術のご経験

求める人物像

  • 化合物半導体の技術開発に興味を持ち、5G/6G時代の通信インフラを支える仕事にやりがいを感じられる方
  • 上流から下流まで全体を見渡しながら開発に取り組みたい方
  • チームで協力しながら粘り強く課題解決に取り組める方
  • 腰を据えて長期的にキャリアを築きたい方

使用ツール

MOCVD

募集要項最終確認 10/16

職種
生産技術
雇用形態
正社員試用期間:あり。3か月。
給与
450〜800万円/年
給与の詳細
年収 450万円〜800万円 年収:450万円 〜 800万円/月給:28万円 〜 40万円 ※経験・能力等を考慮し当社規定により決定 昇給:年1回(6月) 賞与:年2回(6月・12月) ※2025年度実績 5.3ヶ月 諸手当:通勤手当、残業手当、家族手当、食事手当、在宅勤務手当
手当
通勤手当残業手当家族手当食事手当在宅勤務手当
勤務地
244-0845 神奈川県横浜市栄区金井町1番地
働き方
記載なし
勤務時間
フレックスタイム制(標準労働時間 7時間45分/コアタイム 11:00〜14:00) 基本勤務時間:8:30〜17:15 平均残業時間:月20時間程度 固定残業:なし
年間休日
120日
休日・休暇
完全週休二日制(土日祝)年間休日:120日以上有給休暇(年次有給20日、翌年繰越最大20日)積立休暇/リフレッシュ休暇特別休暇(慶弔休暇など)/計画有休制度(個人計画有休5日)半日有給休暇/時間単位有給休暇年末年始休暇産育休:産育休取得実績あり ※初年度は入社月により異なります
福利厚生
企業年金制度持株会(住友電気工業株式会社)財形貯蓄制度(一般・住宅・年金)資格取得支援社員食堂:あり教育体制:社内育成プログラム、SEIグループ内教育プログラム、部門内教育プログラム、社外講習会・展示会・学会聴講の機会
社会保険
雇用保険労災保険健康保険厚生年金
受動喫煙対策
屋内全面禁煙
業務の変更の範囲
会社の定める業務
就業場所の変更の範囲
会社の定める場所
選考の流れ
選考プロセス:書類選考→面接(2~3回)→内定 ※選考中にSPI実施。
掲載日
2026/07/03 16:29(106日前)
最終確認
2026/10/16 06:53(1日前)

仕事内容

募集背景

  • 5G/6G時代の無線通信の高周波化に伴い、GaN-HEMTデバイスの需要が拡大しています。GaN-HEMTの性能はエピタキシャル結晶成長が大きく左右する最重要工程であり、エピ技術チームの人員補強が必要です。
  • 横浜拠点を中心に、エピタキシャル結晶成長の技術開発と量産展開を担っていただけるエンジニアを募集します。

ポジション概要

  • 5G/6G基地局向けGaN-HEMTデバイスの性能を左右するエピタキシャル結晶成長の技術開発および量産展開を担うポジションです。MOCVD等を用いた結晶成長プロセスの開発から、量産ラインへの展開までを一貫してご担当いただきます。

主な業務

  • GaN系化合物半導体のエピタキシャル結晶成長プロセスの技術開発
  • MOCVD等を用いた結晶成長条件の最適化
  • 新製品・新構造に対応する結晶成長技術の確立
  • 量産ラインへの技術展開・歩留まり安定化
  • 結晶品質の評価・解析

業務の特徴

  • エピタキシャル結晶成長を担うチームに配属。技術開発と量産展開の両面に携われます。
  • プロセス開発やデバイス設計との連携が日常的にあり、エピ技術がデバイス性能にどう影響するかが直接見える環境です。

期待する役割・ミッション

  • GaN-HEMTトランジスタのエピタキシャル結晶成長における技術開発と量産展開の中核メンバーとしてご活躍いただくことを期待しています。

キャリアパス

  • 入社後、OJTを通じて当社固有の技術にキャッチアップいただき、数年後には担当領域の技術リーダーとしてご活躍いただけるよう成長を期待しています。
  • 部門間異動の自由度が高く、ユニットプロセス → プロセスインテグレーション→ エピ成長技術→ モデリングなど、ご志向に応じて幅広いキャリアパスが選択可能です。各要素技術のスペシャリストとして深めるキャリアと、リーダー・課長クラスとして全体を見る力を養うキャリアの両方が開かれています。

組織構成

  • 電子デバイス事業部 プロセス開発部
  • GaN-HEMTのプロセス開発を担う部門です。プロセスインテグレーション、ユニットプロセス開発、エピタキシャル結晶成長、モデリング・シミュレーション、素子設計・レイアウトといった要素技術機能が一つの部に集約されており、材料からトランジスタまで垂直統合された体制で機動的に技術開発を進めています。
  • 部門間の垣根を越えた会話がしやすく、隣の技術領域で自分の成果がどう使われるかが見えやすい環境です。

5G/6G時代の無線通信インフラを、最前線で支える

  • 5G/6G時代の到来に伴い、無線通信の高周波化が急速に進んでいます。基地局向け高出力・高効率デバイスの市場は今後さらに拡大が見込まれており、当社の技術優位がそのまま事業成長に直結するフェーズにあります。通信インフラ全体の需要が伸びる領域であり、将来性の高い事業基盤のもとでキャリアを築けます。
  • GaN-HEMT業界で国内断トツのシェアと売上を持ち、海外のグローバル環境で活躍できます。
  • 住友電工グループのスケールメリットを生かし、継続的に事業を拡大しています。
  • 最終顧客と直接仕事ができる、デバイスメーカーならではの顧客近接性があります。

シリコン半導体とは異なる、全体を見渡せる開発体制

  • シリコン半導体の開発現場では、規模が大きく完全分業が一般的です(例:エッチング担当ならエッチングのみ)。個々の工程について深い専門性が磨かれる、技術者にとって面白い領域です。
  • 一方、当社の化合物半導体開発には別の面白さがあります。プロセス開発部にユニットプロセスからインテグレーション、結晶成長、モデリングまでの要素技術機能が集約されています。隣の技術領域を見れば、自分のユニット技術がどのトランジスタに使われるかが分かる。上流から下流まで全体を見渡しながら、製品全体を理解した上で開発に取り組める環境です。

キャリア面の魅力

  • ユニットプロセス → プロセスインテグレーション→ エピ成長技術→ モデリングなど、部門間異動の自由度が高く、総合力と広い視野を身につけられます。
  • 本人希望があれば、顧客対応や製品の利用シーンにも視野を広げる機会があります。
  • 住友電工グループの一員として、安定した経営基盤のもと長期的にキャリアを築けます。

この求人は、住友電工デバイス・イノベーション株式会社の採用ページの内容をAIが読み取って整理したものです。応募の前に採用ページの原文を確かめてください。データの集め方企業サイト

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