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Photolithography 設備エンジニア (DUV Scanner)

給与
記載なし
勤務地
広島県
休日
記載なし
雇用形態
記載なし

どんな仕事かAIによる生成

Micron Technology, Inc. 広島FabのPhoto(DUV Scanner)エリアで、量産ラインにおける露光装置の安定稼働、性能向上、歩留まり改善を担います。装置起因の異常解析や再発防止、プロセス安定化を推進し、関連部門やベンダーと連携して品質・生産性・コスト・リスクの最適化を行います。

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給与記載なし

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応募資格

必須

歓迎

募集要項最終確認 10/21

職種
設備保全
雇用形態
記載なし
給与
記載なし
勤務地
広島県
働き方
記載なし
学歴
大学卒業以上
掲載日
2026/10/12 05:16(10日前)
最終確認
2026/10/21 22:16(1日前)

仕事内容

職務内容サマリ

  • Micron Technology, Inc. 広島Fabにおいて、Photo(DUV Scanner)エリアの装置エンジニアとして、量産ラインにおける露光装置の安定稼働、性能向上、歩留まり改善をリードしていただきます。
  • 本ポジションでは、露光装置の構造・動作原理を深く理解した上で、装置起因の異常解析、再発防止、プロセス安定化を主体的に推進します。プロセスエンジニア、FAC、品質、ベンダー(装置メーカー)と密に連携し、量産環境における品質・生産性・コスト・リスクの最適化を担います。

装置・量産安定化

  • DUV Scanner装置の構造・制御・光学系を理解した上での量産装置管理
  • 装置稼働率(Availability / Productivity)向上に向けた改善活動の立案・実行
  • ベースライン維持、ドリフト管理、再現性確保に関する技術的リード

トラブルシューティング・異常解析

  • 装置起因の異常に対する迅速な切り分け・原因特定・恒久対策
  • 故障解析、FMEA、8D 等の手法を用いた再発防止活動
  • 複合要因(装置・プロセス・材料・運用)を考慮した問題解決

装置・プロセス改善

  • アライメント、フォーカス、露光量、オーバーレイ等の露光関連パラメータ最適化
  • プロセス能力(Cp/Cpk)向上および製造コスト削減に向けた改善推進
  • 装置・ソフトウェアアップグレードの計画、導入、量産リリース対応

立ち上げ・評価

  • 新規装置・改造装置の立ち上げ、量産認定(Baseline / Release)対応
  • 新材料・新プロセス導入時の装置観点での評価・リスク整理
  • ベンダーとの技術ディスカッション、仕様レビュー、課題解決推進

クロスファンクショナル連携

  • プロセス、品質、FAC、EHS、サプライヤーと連携した改善活動
  • 品質・コスト・リスク管理目標達成に向けた監査・是正対応

この求人は、マイクロンメモリジャパン株式会社の採用ページの内容をAIが読み取って整理したものです。応募の前に採用ページの原文を確かめてください。データの集め方企業サイト

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