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先端半導体前工程プロセスの研究開発
- 勤務地
- 三重県四日市市
- 休日
- 年間休日125日完全週休2日
- 雇用形態
- 正社員・契約社員
どんな仕事かAIによる生成
OCTRAMをはじめとする先端デバイスの製造に向け、新しい半導体前工程プロセスの研究開発を担当します。300mmウェハでプロセス条件出しや環境整備を行い、物理・化学分析や物理モデル構築を通じて課題の要因を特定し、対策プロセスを立案・検証します。デバイスグループやインテグレーショングループ、装置メーカーと連携し、新規プロセスや設備の開発にも携わります。
この求人に応募
応募資格
必須
- 物理・化学・材料工学などの理工学系基礎知識を有し、それらをベースとしたデータ解析・課題解決（物理モデル構築や要因解析など）の実務経験
- デバイスグループやインテグレーショングループなど、社内外の複数部門と円滑に連携できるエンジニアとしてのコミュニケーション能力
- 大卒以上
歓迎
- EDSやXPS等の分析についての一般的な知識
- 半導体前工程におけるプロセス開発、または半導体製造装置の開発実務経験（経験年数不問）
- 特定のユニットプロセス（リソグラフィ、ドライエッチング、ウェット洗浄、CMP、成膜など）における深い専門性や知見
- 酸化物半導体（Oxide Semiconductor）や新材料を用いたデバイス・プロセス開発の経験
- 300mmウェハ製造ラインでの開発・運用経験
- 各種物理・化学分析（例：SEM、TEM、EDS、XPS、SIMSなど）の実務経験、または分析結果に基づくプロセス最適化の経験
- 半導体製造装置メーカーとの共同開発や、新規設備の導入・立ち上げを主導した経験
- 英語力（目安：TOEIC 600点以上、または英語での仕様書読解・海外メーカーとの実務経験）
応募について
- 半導体前工程におけるプロセス開発、または半導体製造装置の開発実務経験（経験年数不問）
募集要項最終確認 10/17
- 職種
- 研究職（応用研究員）
- 雇用形態
- ・雇用形態：正社員(試用期間2か月、契約期間の定めなし)※場合により嘱託採用の可能性あり
- 給与
- 550〜1260万円/年
- 給与の詳細
- ・給与：月給33.3万〜80万円（想定年収 550万〜1260万円）※上記の下限は初任給（学卒新人）です。経験・能力を考慮し決定・その他：昇給年1回、賞与年2回(7月、12月)
- 手当
- 次世代育成手当15,000円/月住宅費補助通勤手当時間外勤務手当在宅勤務手当
- 勤務地
- 三重県四日市市
- アクセス・通勤
- 車通勤可バイク通勤可
- 転勤
- ※配置転換や転勤・出向などの人事異動等により、就業場所を変更することがある。
- 働き方
- ・その他：昇給年1回、賞与年2回(7月、12月)、交通費支給(規定による)、在宅勤務制度、財形貯蓄制度、企業年金制度、従業員持株制度、健康保険、雇用保険、労災保険等※在宅勤務制度利用者は、自宅その他在宅勤務制度実施基準で定める場所を含む
- 勤務時間
- ・勤務時間 ：8時30分〜17時15分(※休憩時間60分、フレックスタイム制）※管理職採用の場合、年俸制。フレックスタイム制、次世代育成手当、住宅費補助、時間外勤務手当は対象外
- 年間休日
- 125日
- 休日・休暇
- 年間休日125日(2026年度)完全週休2日制(土日)祝日ＧＷ夏季年末年始有給休暇赴任休暇介護休暇妊娠保護休暇看護等休暇等
- 福利厚生
- 独身寮、単身寮、家族社宅在宅勤務制度財形貯蓄制度企業年金制度従業員持株制度メンター制度があり若い方の技術者としての育成を支援します。最新の情報に触れるために学会参加を推奨しています。
- 社会保険
- 健康保険、雇用保険、労災保険等
- 受動喫煙対策
- 敷地内禁煙（屋外喫煙可能場所あり)
- 業務の変更の範囲
- その他会社が指示する業務
- 就業場所の変更の範囲
- 会社が指定する場所
- 学歴
- 大学卒業以上
- 選考の流れ
- 【Web面接実施中】
- 掲載日
- 2026/10/11 21:38（6日前）
- 最終確認
- 2026/10/17 01:41（今日）
仕事内容
採用背景
- 人工知能(A.I.)の性能向上に伴い、A.I.は日常生活に無くてはならないツールとなっています。将来的には更なる性能向上と活用される分野が増大することが予想されています。A.I.の活用による計計算量の飛躍的な増大とそれに伴うデータセンターなどで使用する電力の消費が社会問題になりつつあります。キオクシアでは高性能かつ消費電力を削減可能なメモリであるOCTRAM(Oxide Channel Transistor RAM)を開発しています。まだ研究開発段階ではありますが完成度を早期に上げ、製品化をしたいと考えています。OCTRAMの製造プロセスを開発して頂ける方を募集しています。製品化のための研究開発により社会問題の解決を一緒にしませんか。
組織のミッション
- 優れた特性を持つ材料やプロセスを300mmウェハ上で検証し、新デバイス開発に活用することがミッションとなります。デバイス開発を通じて新デバイスの特性や製造容易性を確認することで量産可能性を検証し、次のビジネスの柱を築くことになります。
お任せする業務
- OCTRAMを始めとした先端デバイスを製造するための新プロセス開発に従事してもらう予定です。具体的にはデバイス形状を造るリソグラフィ、ドライ加工、ウェット、CMPなどのプロセス、及びデバイス特性を司る絶縁膜成膜、導電体成膜などのプロセスが対象となります。
具体的な仕事内容
- 先端デバイスを開発するためにデバイスグループやインテグレーショングループと連携して業務を行います。300mmウェハでのデバイス・ロットを流すためにプロセス条件出しや環境整備を行います。工程で課題のあるプロセスについては課題の要因を抽出、解決するための物理モデル構築、それらのモデルを検証するために物理分析や化学分析を活用します。課題の要因が理解できたところで、対策プロセスを立案し、その結果を確認していきます。また、先端デバイスでは既存の装置では実現できない新規のプロセスが必要となります。新プロセスを実現するために装置メーカーとの共同開発、新規設備の導入をすることもあります。
従事すべき業務の変更の範囲
- （雇入れ直後）上記の通り（変更の範囲）その他会社が指示する業務
使用ツール
- 半導体前工程の300mmウェハ装置を主に使用してプロセス開発を行います。クリーンルームでの作業もありますが、作業担当の方に依頼することが可能です。
業務のやりがい・魅力
- 世の中にアピールすることができる消費電力が低い新メモリデバイスを開発しています。製品化を実現できれば、会社のビジネス拡大に寄与することができます。さらには低消費電力のデバイス利用が拡大することで膨大な電力を消費するデータセンターの消費電力を削減し、社会貢献することができます。
技術優位性
- 学会でも注目を集める低消費電力デバイス：OCTRAMの開発を行っています。最先端のデバイスを製造するために最先端のプロセスを一緒に開発しませんか。
キャリアパスイメージ
- 担当するユニットプロセスの専門性を高めると同時に経験を積んでもらいます。同時に開発するデバイスについての知識も習得して頂き、担当する工程に真に求められるスペックが何かを自ら提案できるようになってもらいたいと思います。将来的には複数のユニットプロセスと連携し、総合的な最適化ができるような技術者を目指してもらいたいと考えています。
職場環境
- 職場内に個人ブース、セミオープン会議室、立ち話スペースなどがあり、柔軟な働き方が可能です。また、リフレッシュルームもあり、一休みすることもできます。
研修・育成制度
- メンター制度があり若い方の技術者としての育成を支援します。最新の情報に触れるために学会参加を推奨しています。
この求人は、キオクシア株式会社の採用ページの内容をAIが読み取って整理したものです。応募の前に採用ページの原文を確かめてください。データの集め方企業サイト
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