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研究開発 - ナノインプリント材料開発

500〜1000万円/年

※ 募集要項に記載のレンジ。実額は選考で決まります

下限は全国の化学・素材研究開発の求人の中央値(570万円)より70万円低い

勤務地
神奈川県開成町
休日
記載なし
雇用形態
正社員

どんな仕事かAIによる生成

ナノインプリントリソグラフィーで使用される新規材料の開発および市場導入を担います。半導体デバイス製造用材料の開発と市場導入、または光学デバイス等の新規デバイス製造用材料の研究開発を担当します。

応募資格・募集要項・仕事内容を見る

この求人に応募

給与500〜1000万円/年

募集元で応募する富士フイルム株式会社の採用ページへ
相談する共有準備中

応募は募集元の採用ページで受け付けています。当サイトに応募フォームはありません。

応募資格

必須

  • 大卒院前期課程以上
  • 半導体材料やディスプレー材料等の高機能材料の開発経験を有する方
  • オーナーシップ、コミュニケーション能力、迅速な行動力、的確な判断力を有する方

歓迎

  • ナノインプリント材料、またはナノインプリントプロセスに関する専門知識を有する方
  • 半導体リソグラフィー、紫外線硬化樹脂、機能性インクジェットインクに関する専門知識を有する方
  • 海外顧客との打合せで概要把握や議論ができるレベルの英語力を有する方

募集要項最終確認 10/18

職種
化学・素材研究開発
雇用形態
正社員契約期間:定めなし試用期間:6か月
給与
500〜1000万円/年
給与の詳細
メンバー : 500万円 〜 1000万円マネージャー:1000万円 〜 1300万円
勤務地
神奈川県開成町
転勤
本社及び全国の拠点
働き方
記載なし
勤務時間
時間外労働あり
受動喫煙対策
敷地内禁煙
業務の変更の範囲
当社業務全般
就業場所の変更の範囲
本社及び全国の拠点
学歴
大学卒業以上
掲載日
2026/10/12 00:06(7日前)
最終確認
2026/10/18 18:13(1日前)

仕事内容

職務内容

  • 本職務では、ナノインプリントリソグラフィーで使用される新規材料の開発および市場導入を担っていただきます。

担当職務

  • 下記のナノインプリント材料開発職務のいずれか、もしくは両方ご担当いただきます。

職務内容

  • 1.半導体デバイス製造用ナノインプリント材料の開発と市場導入
  • 2.光学デバイス等の新規デバイス製造用ナノインプリント材料の研究開発

仕事の魅力

  • ナノインプリントリソグラフィーは微細パターンや複雑な3次元形状を1回の転写で作成できることから、次世代のパターニング技術として注目を集めており、最近は省電力・省資源などの低環境負荷技術としても期待されています。また、ナノインプリントリソグラフィーは日本国内の有力な関連企業が技術開発をリードしており、世界最先端の開発に携わることが可能です。当社も半導体製造用のナノインプリント材料の技術リーダーとして業界に認知されており、今後さらに事業を拡大すべく、最先端のパターニング技術の開発をご担当いただける方を増員募集します。半導体用に培った材料技術を基盤とし、光学デバイス等の新規材料の開発にも活躍の場を広げるチャンスがあるポジションです。

この求人は、富士フイルム株式会社の採用ページの内容をAIが読み取って整理したものです。応募の前に採用ページの原文を確かめてください。データの集め方企業サイト

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